AL10292 Sapphire Wafer Al2O3 A plan (11-20) Dia. 1 pouce x 0,5 mm

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) Dia. 1 pouce x 0,5 mm Description

Ce produit est une plaquette d'oxyde d'aluminium (Al2O3) orientée selon le plan A (11-20), offrant des propriétés cristallographiques définies. Son diamètre de 1 pouce et son épaisseur de 0,5 mm garantissent sa compatibilité avec les équipements de traitement standard. L'inertie chimique et la grande stabilité thermique de l'Al2O3 font que la plaquette convient aux applications à haute température et aux dispositifs optiques. Les mesures sont confirmées par des techniques de métrologie précises afin de maintenir l'exactitude des dimensions et de la structure.

Plaque de saphir Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 1 pouce x 0,5 mm Applications

Électronique
- Utilisation comme substrat dans le traitement des semi-conducteurs pour obtenir une gestion thermique stable en tirant parti d'une conductivité thermique élevée.
- Utilisé comme support pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de capteurs afin de maintenir l'intégrité de la surface en tirant parti d'une faible densité de défauts.

Industrie
- Utilisé comme fenêtre dans les systèmes laser pour obtenir une transmission efficace de la lumière grâce à une excellente clarté optique.
- Appliqué comme substrat dans les dispositifs de microfabrication pour assurer la cohérence dimensionnelle en tirant parti d'une orientation contrôlée du plan A.

Plaque de saphir Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 1 pouce x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée dans des matériaux antistatiques et protégés dans un conteneur doublé de mousse afin d'atténuer les chocs mécaniques et la contamination. Elle est stockée à température contrôlée et à faible taux d'humidité afin de préserver ses propriétés structurelles. L'emballage comprend des mesures anti-poussière et permet de personnaliser l'étiquetage et la compartimentation pour répondre à des exigences de stockage spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment les tolérances dimensionnelles sont-elles vérifiées pour la plaquette ?
R1 : Les dimensions sont vérifiées par interférométrie optique, ce qui garantit que la plaquette respecte des tolérances strictes pour le traitement des semi-conducteurs et les applications de recherche.

Q2 : Quelles sont les méthodes utilisées pour évaluer la qualité de la surface de la plaquette ?
R2 : La qualité de la surface est évaluée par microscopie à force atomique (AFM), qui vérifie l'uniformité et identifie tout défaut de surface susceptible d'affecter les performances du dispositif.

Q3 : Quelles sont les précautions à prendre lors du traitement des plaquettes ?
R3 : Il est recommandé d'utiliser des gants non poudrés et des outils antistatiques et de stocker la plaquette dans un environnement à température et à humidité contrôlées afin d'éviter toute contamination et tout dommage mécanique.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir, composées d'Al2O3, sont largement utilisées comme substrats dans diverses applications industrielles et de recherche. Leur transparence optique inhérente, leur stabilité thermique et leur inertie chimique les rendent adaptés aux systèmes optiques et à haute température. Ces propriétés sont essentielles pour maintenir les performances des dispositifs dans les applications semi-conductrices et photoniques.

L'étude des substrats en saphir s'étend aux domaines de la croissance cristalline et de l'ingénierie des défauts. L'orientation cristallographique contrôlée garantit un comportement prévisible en cas de variations de température, ce qui est essentiel pour les applications des matériaux avancés. Ce contexte plus large souligne l'importance des substrats de saphir tant dans la recherche expérimentale que dans la fabrication à l'échelle industrielle.