AL10289 Sapphire Wafer Al2O3 R Plane 100 mm Dia x 0.46 mm

Sapphire Wafer Al2O3 R Plane 100 mm Dia x 0.46 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 R Plane 100 mm Dia x 0,46 mm est fabriquée à partir d'Al2O3 de haute pureté avec un plan R spécifique, ce qui permet de contrôler l'orientation cristalline. Les dimensions de 100 mm de diamètre et de 0,46 mm d'épaisseur garantissent la compatibilité avec les équipements standard de fabrication de semi-conducteurs et d'optiques. L'inertie chimique et la dureté mécanique du matériau le rendent adapté aux applications où la durabilité et une contamination minimale de la surface sont essentielles.

Plaque de saphir Al2O3 R Plane 100 mm Dia x 0.46 mm Applications

1.
Électronique
- Utilisé comme substrat isolant dans les circuits microélectroniques pour obtenir une gestion thermique efficace en tirant parti de la conductivité thermique élevée du saphir.
- Utilisé comme couche diélectrique dans les composants haute fréquence pour minimiser les interférences de signaux grâce à ses caractéristiques électriques stables.

2.
Systèmes optiques
- Sert de fenêtre optique dans des environnements à haute température ou chimiquement agressifs pour maintenir la clarté et la durabilité en utilisant les excellentes propriétés de transmission du saphir.
- Fréquemment utilisé dans les optiques laser comme couvercle de protection pour les composants sensibles, offrant une résistance aux rayures et à la gravure chimique.

Plaquette de saphir Al2O3 R Plane 100 mm Dia x 0.46 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans un support antistatique doublé de mousse afin de minimiser les chocs mécaniques et la contamination de surface. Elle est stockée dans un conteneur exempt de poussière, à température contrôlée et dans des conditions de salle blanche. Des options d'étiquetage détaillé et de compartimentage personnalisé sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de traitement et de manipulation. Cet emballage est conçu pour protéger la plaquette pendant le transport et le stockage à long terme.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles mesures de la qualité de surface sont généralement effectuées sur cette plaquette ?
R1 : La qualité de la surface est évaluée par interférométrie et microscopie à force atomique pour déterminer la planéité et la rugosité. Ces mesures permettent de déterminer si la plaquette convient aux applications nécessitant une diffusion minimale et des surfaces exemptes de défauts.

Q2 : Comment l'orientation du plan R affecte-t-elle le traitement dans les applications de semi-conducteurs ?
R2 : L'orientation du plan R offre des propriétés de gravure uniques et influence la dynamique des dislocations pendant la fabrication des dispositifs. Cette orientation contrôlée peut conduire à une meilleure uniformité du dépôt de film et à une meilleure reproductibilité du processus dans la fabrication des semi-conducteurs.

Q3 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour préserver l'intégrité de la plaquette ?
R3 : La plaquette doit être stockée dans un environnement propre, à température contrôlée et avec une régulation de l'humidité afin de limiter la contamination et la dégradation du matériau. Des mesures antistatiques sont également conseillées pour éviter l'accumulation de particules à la surface.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium monocristallin, est largement utilisé dans les secteurs de l'électronique et de l'optique en raison de ses propriétés spécifiques, telles qu'une résistance mécanique élevée, une conductivité thermique et une inertie chimique. Sa nature monocristalline lui permet d'offrir des performances constantes dans les applications nécessitant un contrôle précis des caractéristiques du matériau, y compris le développement de substrats et de composants de protection.

La recherche en science des matériaux continue d'améliorer la compréhension des interactions de surface du saphir et de la gestion des défauts, qui sont essentielles pour la fabrication de dispositifs avancés et de systèmes optiques à haute performance.