AL10280 Plaque de saphir Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.9 mm

Sapphire Wafer Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.9 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,9 mm est un substrat d'alumine de haute pureté avec une orientation précise du plan (0001). Son diamètre de 100 mm et son épaisseur de 0,9 mm répondent aux exigences standard des équipements de traitement des semi-conducteurs. La plaquette subit une analyse de surface avancée pour garantir une faible rugosité et un minimum de défauts, ce qui améliore ses performances dans les applications exigeant une planéité et une précision dimensionnelle rigoureuses.

Plaquette de saphir Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.9 mm Applications

Applications électroniques et semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs pour réaliser une photolithographie précise en tirant parti de ses imperfections de surface minimales pour améliorer la résolution du modèle.
- Utilisé comme base dans les circuits à haute fréquence pour gérer la cohérence diélectrique en utilisant ses propriétés stables d'isolation électrique.

Applications industrielles
- Sert de composant isolant dans l'électronique de puissance pour maintenir la stabilité thermique en utilisant sa conductivité thermique élevée et sa densité de défauts minimale.

Optoélectronique
- Utilisé comme couche de support dans la fabrication des LED pour assurer une émission lumineuse uniforme en tirant parti de sa transparence optique et de son intégrité structurelle.

Plaquette de saphir Al2O3 (0001) 100 mm de diamètre x 0,9 mm Emballage

Chaque plaquette est enfermée individuellement dans un sachet antistatique de qualité salle blanche et fixée dans des supports rembourrés et doublés de mousse. L'emballage maintient un environnement inerte afin d'éviter toute contamination de surface et tout dommage mécanique. Les directives de stockage recommandent un environnement à température et humidité contrôlées. Un étiquetage personnalisé et des modifications des conteneurs sont possibles pour répondre à des protocoles de stockage et d'expédition spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quel est l'impact de l'état de surface du substrat sur les performances du processus ?
R1 : L'état de surface affecte directement les résultats de la photolithographie et le dépôt de film qui s'ensuit. Une surface uniformément lisse minimise la diffusion et les irrégularités, ce qui améliore la cohérence du processus de fabrication des dispositifs.

Q2 : Quelles sont les conditions environnementales à respecter pendant le stockage ?
R2 : La plaquette doit être stockée dans un environnement à température contrôlée et à faible humidité. Ces conditions permettent de maintenir l'intégrité de la surface et d'éviter la contamination, ce qui est crucial pour les applications de haute précision.

Q3 : Comment les mesures de contrôle de la qualité sont-elles mises en œuvre pour cette plaquette ?
R3 : Le contrôle de la qualité comprend une mesure quantitative de la rugosité de la surface par microscopie à force atomique et une inspection des défauts par microscopie électronique à balayage. Ces évaluations garantissent le respect de normes de fabrication strictes et de spécifications de processus.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium monocristallin (Al2O3), est largement reconnu pour sa dureté et sa grande stabilité thermique. La structure cristalline du matériau constitue une plate-forme optimale pour les dispositifs électroniques et optoélectroniques de haute performance. Son utilisation dans les substrats nécessite un contrôle de qualité rigoureux pour maintenir la planéité et l'uniformité de la surface pendant le traitement à haute température.

Dans le contexte plus large de la science des matériaux, les plaquettes de saphir représentent un élément essentiel dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs photoniques avancés. Leur capacité à résister à des environnements de traitement agressifs tout en offrant des propriétés électriques et optiques stables souligne leur importance à la fois dans le domaine de la recherche et dans celui de la production en grande série.