AL10279 Sapphire Wafer Al2O3 A plan (11-20) Dia. 2 pouces x 0,5 mm

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) Dia. 2 pouces x 0,5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 plan A (11-20) Dia. 2 pouces x 0,5 mm est produite à partir d'Al2O3, avec une orientation précise (11-20) qui permet d'améliorer le contrôle des processus en microélectronique et en photonique. Le diamètre de 2 pouces garantit la compatibilité avec les équipements de traitement standard, tandis que l'épaisseur de 0,5 mm permet de minimiser le gauchissement lors des étapes de traitement ultérieures. Cette plaquette est conçue pour offrir une uniformité dimensionnelle et une intégrité de surface pour des applications très sensibles.

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) Dia. 2 pouces x 0,5 mm Applications

Applications électroniques et semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans les circuits intégrés pour obtenir des propriétés diélectriques uniformes en tirant parti de son orientation cristallographique contrôlée.
- Utilisé dans les dispositifs de puissance pour minimiser les courants parasites grâce à une conductivité thermique et une qualité de surface améliorées.

Appareils optiques
- Fréquemment utilisé comme base pour les modules LED et laser afin de garantir la clarté optique et la stabilité thermique en utilisant sa transparence inhérente.

Instrumentation industrielle
- Sert de plate-forme de capteur dans les systèmes de mesure de précision pour maintenir l'intégrité structurelle sous les cycles thermiques en tirant parti de ses propriétés mécaniques robustes.

Plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) Dia. 2 pouces x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée dans un support dissipateur d'électricité statique avec des couches de mousse et d'anti-contamination. Elle est scellée dans un sac à environnement contrôlé et placée dans un cadre de support rigide pour la protéger des contraintes mécaniques. Les conditions de stockage recommandées comprennent un lieu propre, sec et à température contrôlée afin de préserver l'intégrité du produit. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles en fonction des exigences spécifiques en matière de manutention et de logistique.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation cristallographique (11-20) influence-t-elle les résultats du traitement ?
R1 : L'orientation (11-20) fournit un plan cristallographique uniforme qui facilite des taux de gravure constants et minimise la densité de dislocation. Cela contribue à améliorer la reproductibilité du processus pendant la fabrication des dispositifs, ce qui est essentiel pour les applications semi-conductrices et optoélectroniques.

Q2 : Quelles sont les méthodes d'inspection utilisées pour contrôler la qualité des plaquettes ?
R2 : Le processus de fabrication fait appel à l'interférométrie, à la profilométrie de surface et à la microscopie à force atomique pour contrôler la planéité et détecter les irrégularités de surface. Ces techniques permettent de vérifier que l'épaisseur et la densité des défauts restent dans des tolérances strictes tout au long de la production.

Q3 : Cette plaquette peut-elle être intégrée dans des processus impliquant des températures élevées ?
R3 : Oui, l'Al2O3 présente une excellente stabilité thermique. L'épaisseur contrôlée de 0,5 mm et la composition de haute pureté garantissent que la plaquette conserve ses propriétés mécaniques et optiques dans des conditions de température élevée.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir, fabriquées à partir d'oxyde d'aluminium, sont reconnues pour leur dureté, leur conductivité thermique et leur inertie chimique. Ces caractéristiques les rendent précieuses pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optiques. Une compréhension détaillée des propriétés des cristaux de saphir peut aider les ingénieurs à optimiser les performances des dispositifs et à adapter les paramètres de traitement en conséquence.

Dans la recherche en science des matériaux, l'étude des orientations cristallographiques permet de comprendre les propriétés anisotropes qui sont essentielles lors de la conception de substrats pour des applications avancées. La microstructure contrôlée des plaquettes de saphir minimise les défauts et améliore les performances dans les environnements de haute précision.