AL10278 Sapphire Wafer Al2O3 R Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm

Plaque de saphir Al2O3 R Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 R Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute qualité et présente une orientation cristallographique définie dans le plan R. Le diamètre de 2 pouces et l'épaisseur de 0,5 mm garantissent la qualité du produit. Le diamètre de 2 pouces et l'épaisseur de 0,5 mm garantissent la compatibilité avec les équipements standards de traitement des semi-conducteurs et de l'optique. Cette plaquette se caractérise par une finition de surface lisse et une densité de défauts contrôlée, ce qui permet de minimiser la diffusion et d'améliorer les performances des dispositifs nécessitant une grande clarté optique et une grande robustesse mécanique.

Plaque de saphir Al2O3 R Dia. 2 pouces x 0,5 mm Applications

1.fabrication de produits électroniques et de semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans les circuits intégrés pour obtenir des propriétés thermiques et électriques stables en tirant parti de l'inertie chimique de l'Al2O3.
- Utilisé comme base pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs optoélectroniques afin de bénéficier de sa surface plane et de sa densité de défauts contrôlée.

2)Instrumentation industrielle et de recherche
- Sert de plate-forme pour les capteurs à haute température dans les systèmes de surveillance industriels afin d'obtenir des performances constantes en utilisant son point de fusion élevé et sa stabilité chimique.
- Fréquemment utilisé dans les laboratoires de recherche pour des expériences optiques afin de maximiser la clarté et de minimiser la diffusion de la lumière.

Plaque de saphir Al2O3 R Dia. 2 pouces x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans des supports dissipateurs d'électricité statique et scellée dans des matériaux anti-contamination résistants à l'humidité afin de la protéger contre la pénétration de particules et les dommages mécaniques. Les recommandations de stockage incluent le maintien d'un environnement sec et à température contrôlée pour préserver la qualité de la surface. Des options d'emballage personnalisées, telles que des inserts rembourrés et des étiquettes, sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation dans les environnements de traitement sensibles.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan R affecte-t-elle les performances de la plaquette dans les applications de traitement ?
R1 : L'orientation du plan R offre une cristallographie de surface spécifique qui améliore la planéité et réduit la densité des défauts. Cette orientation favorise le dépôt de couches minces de haute précision et les applications optiques en garantissant une interface uniforme et en minimisant les irrégularités lors de la gravure ou du polissage.

Q2 : Quelles sont les considérations à prendre en compte pour le stockage de ces plaquettes pendant le transport ?
R2 : Les plaquettes doivent être stockées dans des environnements contrôlés avec une faible humidité et des températures ambiantes stables. Un emballage protecteur, tel que des sachets dissipateurs d'électricité statique et des conteneurs doublés de mousse, est essentiel pour éviter les dommages mécaniques et la contamination pendant le transport et le stockage.

Q3 : La tolérance d'épaisseur de 0,5 mm peut-elle être maintenue en permanence pour les commandes de gros volumes ?
R3 : Oui, le processus de production fait appel à un contrôle précis de l'épaisseur et à un étalonnage régulier au moyen de la métrologie optique et de la profilométrie. Ces méthodes garantissent une variation minimale de l'épaisseur, ce qui est essentiel pour maintenir la constance des performances dans le traitement des semi-conducteurs à grande échelle.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium, est apprécié pour son point de fusion élevé, son inertie chimique et sa résistance mécanique. Ces facteurs en font un matériau essentiel pour les substrats dans les environnements à haute température et les dispositifs optiques. Les techniques de croissance cristalline utilisées pour produire ces plaquettes contribuent également à réduire les contraintes internes, améliorant ainsi leur stabilité dans les applications électroniques et photoniques avancées.

Il est essentiel pour les ingénieurs et les chercheurs de comprendre les propriétés des matériaux et les méthodes de fabrication des plaquettes de saphir. La relation entre l'orientation cristallographique et les caractéristiques de surface joue un rôle clé dans la détermination des performances des plaquettes dans diverses applications, allant de la fabrication de semi-conducteurs au développement de capteurs optiques.