AL10276 Sapphire Wafer Al2O3 (0001) Dia. 4 pouces x 0,5 mm

Plaquette de saphir Al2O3 (0001) Dia. 4 pouces x 0,5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 (0001) Dia. 4 pouces x 0,5 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3) avec une orientation (0001) maintenue avec précision. Le diamètre de 4 pouces assure la compatibilité avec l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs, tandis que l'épaisseur de 0,5 mm contribue à des performances mécaniques et thermiques constantes. Son inertie chimique et sa dureté en font un matériau adapté aux applications nécessitant une grande stabilité et un minimum d'imperfections de surface.

Plaquette de saphir Al2O3 (0001) Dia. 4 pouces x 0,5 mm Applications

1.électronique
- Utilisé comme substrat dans les circuits RF pour minimiser la perte de signal en tirant parti des propriétés diélectriques du matériau.

2)Fabrication de semi-conducteurs
- Sert de support pour le traitement des circuits intégrés afin de maintenir la cohérence dimensionnelle grâce à son épaisseur contrôlée et à sa faible densité de défauts.

3)Dispositifs optoélectroniques
- Utilisé comme base dans la fabrication de LED et de lasers pour faciliter la gestion thermique en utilisant sa conductivité thermique élevée et son inertie chimique.

Plaquette de saphir Al2O3 (0001) Dia. 4 pouces x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans un conteneur antistatique avec un rembourrage en mousse pour éviter les rayures. Elle est ensuite scellée dans un sac purgé à l'azote pour limiter l'exposition à l'humidité et la contamination particulaire. Il est recommandé de la stocker dans un environnement à température contrôlée et à l'abri de la poussière. Des options d'emballage personnalisées, y compris des couches de protection supplémentaires et un étiquetage, sont disponibles en fonction des exigences de manipulation spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelle est la signification de l'orientation (0001) de cette plaquette de saphir ?
R1 : L'orientation (0001) fournit un plan de base atomiquement lisse qui améliore la croissance de la couche épitaxiale et minimise la densité des dislocations, ce qui est essentiel pour les semi-conducteurs de haute précision et les applications optiques.

Q2 : Quels sont les avantages d'une épaisseur uniforme de 0,5 mm pour le traitement des plaquettes ?
R2 : Une épaisseur uniforme de 0,5 mm garantit la compatibilité avec les outils de traitement standard, minimise les contraintes mécaniques lors des opérations à haute température et contribue à maintenir une distribution uniforme de la chaleur sur la tranche de silicium.

Q3 : Quelles sont les pratiques de stockage recommandées pour cette plaquette ?
R3 : La plaquette doit être stockée dans un environnement propre, à température contrôlée et antistatique. L'utilisation d'emballages scellés purgés à l'azote et de conditions d'humidité contrôlées permet d'éviter la contamination et de préserver l'intégrité structurelle du substrat.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium cristallin (Al2O3), est apprécié dans la science des matériaux en raison de son excellente conductivité thermique, de sa dureté mécanique et de son inertie chimique. Ces propriétés sont essentielles dans les applications où les substrats doivent résister à des températures élevées et à des environnements de traitement agressifs. L'orientation (0001) facilite une structure cristalline uniforme, ce qui est essentiel dans des processus tels que la croissance épitaxiale.

Les progrès des techniques de synthèse, notamment le dépôt chimique en phase vapeur et les méthodes précises de caractérisation des surfaces telles que le MEB et le XRD, ont permis la production de plaquettes de saphir présentant une densité de défauts minimale. Ces développements permettent l'intégration de substrats de saphir dans les dispositifs à semi-conducteurs, les systèmes optoélectroniques et les applications à haute température où l'uniformité du matériau est vitale.