AL10274 Sapphire Wafer Al2O3 M Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm

Plaque de saphir Al2O3 M Dia. 2 pouces x 0,5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 M Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm se compose d'oxyde d'aluminium (Al2O3) transformé en une plaquette avec une orientation cristallographique plane M définie. Le diamètre de 2 pouces et l'épaisseur de 0,5 mm s'adaptent à l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs, ce qui garantit la compatibilité et la facilité d'intégration. L'inertie chimique et la conductivité thermique du matériau le rendent adapté aux applications où l'isolation électrique et la stabilité mécanique sont essentielles.

Plaque de saphir Al2O3 M Plane Dia. 2 pouces x 0,5 mm Applications

1)Applications électroniques
- Utilisé comme substrat dans les dispositifs LED pour obtenir une extraction efficace de la lumière en tirant parti de la stabilité chimique et de la conductivité thermique élevée.
- Utilisé comme base dans les circuits RF à haute fréquence pour améliorer l'intégrité du signal en utilisant ses propriétés de faible perte diélectrique.

2)Applications industrielles
- Utilisé comme plate-forme isolante dans les outils de traitement des semi-conducteurs pour maintenir la cohérence du processus grâce à son épaisseur et à sa cristallinité uniformes.
- Utilisé comme support pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs microélectroniques, fournissant une surface stable et inerte.

3)Applications optoélectroniques
- Utilisé comme matériau de fenêtre dans les capteurs optiques à haute température pour assurer une transmission claire du signal en tirant parti de son excellente transparence optique et de sa résistance mécanique.

Plaque de saphir Al2O3 M Dia. 2 pouces x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée dans un conteneur antistatique doublé de mousse afin de minimiser les contraintes mécaniques et la contamination de la surface. Elle est scellée dans un sac de protection contre l'humidité afin d'éviter toute exposition à l'humidité atmosphérique. L'emballage permet le stockage à température ambiante et est disponible dans des configurations personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation en laboratoire, y compris l'étiquetage individuel et les couches de rembourrage.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan M affecte-t-elle les performances de la plaquette ?
R1 : L'orientation du plan M produit une surface cristallographique spécifique qui améliore l'uniformité du dépôt de couches minces. Cette caractéristique est essentielle pour les applications qui nécessitent un décalage de réseau minimal et une croissance précise du film.

Q2 : Quelles sont les méthodes de contrôle de la qualité mises en œuvre pendant la production ?
R2 : La production comprend une inspection interférométrique de la surface et un traitement thermique contrôlé pour garantir une épaisseur uniforme et une densité de défauts minimale. Ces mesures contribuent à l'homogénéité des caractéristiques du matériau d'un lot à l'autre.

Q3 : Comment la plaquette doit-elle être stockée pour conserver ses propriétés ?
R3 : Il est recommandé de stocker la plaquette dans un environnement contrôlé et sec afin d'éviter l'absorption d'humidité. Un emballage antistatique et des conditions ambiantes stables permettent de conserver les propriétés du substrat au fil du temps.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir fabriquées à partir d'Al2O3 sont largement utilisées dans les industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique en raison de leur excellente conductivité thermique et de leurs propriétés diélectriques. La structure cristalline du saphir constitue une plate-forme stable pour les processus à haute température et le dépôt de couches minces. Comprendre l'impact de l'orientation cristallographique et du traitement de surface est crucial pour les applications d'ingénierie qui exigent précision et durabilité. Les techniques de traitement avancées continuent d'améliorer les performances de ces substrats dans les processus de fabrication modernes.