AL10271 Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 0,25 pouce x 0,25 pouce x 0,5 mm

Sapphire Wafer Al2O3 A plan (11-20) 0.25 inch x 0.25 inch x 0.5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 plan A (11-20) 0,25 pouce x 0,25 pouce x 0,5 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3) produit avec un contrôle précis de l'orientation du plan A. Les dimensions garantissent la compatibilité avec l'équipement de traitement standard utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optiques. Ses dimensions garantissent la compatibilité avec l'équipement de traitement standard utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optiques. L'orientation cristallographique du plan A (11-20) est cruciale pour les applications qui exigent des propriétés de surface contrôlées et une stabilité dimensionnelle.

Plaquette de saphir Al2O3 Plan A (11-20) 0,25 pouce x 0,25 pouce x 0,5 mm Applications

1.électronique et traitement des semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans les systèmes de dépôt de couches minces pour obtenir une croissance uniforme du film en tirant parti de sa surface cristalline bien définie.
- Utilisé comme base pour les composants microélectroniques afin de maintenir la stabilité dimensionnelle pendant le traitement à haute température.

2)Fabrication de produits optoélectroniques et de capteurs
- Sert de plate-forme dans la fabrication de DEL pour améliorer l'efficacité de l'extraction de la lumière en utilisant sa surface lisse et cristalline.
- Utilisé dans les applications de capteurs pour fournir une barrière chimiquement inerte qui préserve l'intégrité du signal dans des conditions environnementales variables.

Plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) 0,25 pouce x 0,25 pouce x 0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée dans un conteneur propre et antistatique, doublé de mousse pour atténuer les chocs mécaniques. Elle est placée dans des compartiments individuels afin d'éviter toute contamination croisée. Les recommandations de stockage incluent un environnement sec, à température stable, avec une exposition minimale aux particules. Des options d'emballage personnalisées avec un rembourrage et un étiquetage supplémentaires sont disponibles pour répondre à des protocoles de manipulation et de stockage spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation cristallographique de ces plaquettes est-elle vérifiée ?
R1 : Le contrôle de la qualité est effectué par microscopie électronique à balayage et par diffraction des rayons X. Ces méthodes confirment l'orientation du plan A (11,5 mm). Ces méthodes confirment l'orientation du plan A (11-20) et vérifient l'absence de défauts de surface significatifs, ce qui garantit la cohérence des dimensions.

Q2 : Quelles sont les conditions de manipulation critiques requises pour ces substrats ?
R2 : Les plaquettes doivent être manipulées dans des salles blanches avec des précautions antistatiques. Elles doivent être stockées dans des locaux secs et à température contrôlée pour éviter la contamination des surfaces et les contraintes mécaniques.

Q3 : Ces plaquettes peuvent-elles être intégrées dans un équipement standard de traitement des semi-conducteurs ?
R3 : Oui, les dimensions et la consistance des matériaux de ces plaquettes garantissent leur compatibilité avec les outils de fabrication de semi-conducteurs standard, ce qui permet de les intégrer dans les flux de processus établis sans modifications significatives.

Informations complémentaires

Le saphir, ou Al2O3 cristallin, est un matériau essentiel dans les applications électroniques et optiques de pointe en raison de sa stabilité chimique et de ses excellentes propriétés mécaniques. Sa conductivité thermique et ses caractéristiques d'isolation électrique en font un matériau adapté aux applications à haute température et à haute fréquence. Il est essentiel de comprendre l'interaction entre l'orientation cristallographique et les propriétés des matériaux pour optimiser les performances des dispositifs dans la recherche et l'industrie.
Les études en science des matériaux soulignent l'importance du contrôle de l'orientation cristalline, qui a un impact direct sur les propriétés de surface et les résultats du traitement dans la fabrication des semi-conducteurs et des produits optoélectroniques.