AL10265 Saphir Wafer Al2O3 (11-02) 10x5x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm est un substrat d'alumine monocristallin de 10 mm sur 5 mm sur 0,5 mm et d'orientation cristallographique définie (11-02). Sa faible densité de défauts et sa composition chimique contrôlée minimisent les niveaux d'impuretés. Ces caractéristiques favorisent le dépôt uniforme de films et améliorent la cohérence des performances dans la fabrication de semi-conducteurs et l'assemblage de dispositifs optiques.

Plaque de saphir Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Applications

Applications électroniques
- Utilisé comme substrat isolant dans les circuits intégrés pour réduire les pertes diélectriques en tirant parti de son orientation cristalline contrôlée et de sa stabilité thermique, ce qui permet d'améliorer les performances des circuits.

Systèmes optiques
- Utilisé comme fenêtre transparente dans les assemblages de capteurs optiques pour limiter la diffusion de la lumière en tirant parti de sa finition de surface uniforme, ce qui contribue à améliorer la clarté de l'image pendant le fonctionnement.

Plaquette de saphir Al2O3 (11-02) 10x5x0,5 mm Conditionnement

La plaquette est emballée dans un support en mousse antistatique et anti-rayures et scellée dans un sac antistatique pour éviter toute contamination. Il est stocké dans un environnement contrôlé avec une température stable et une faible humidité. Des options supplémentaires d'étiquetage personnalisé et de modification des conteneurs sont disponibles pour répondre aux protocoles de manipulation spécifiques des laboratoires.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation (11-02) affecte-t-elle l'intégration des matériaux dans la fabrication des dispositifs ?
R1 : L'orientation (11-02) fournit un alignement atomique uniforme qui favorise un dépôt de film cohérent dans les processus de semi-conducteurs, réduisant ainsi les variations lors de l'intégration des dispositifs.

Q2 : Quelles sont les méthodes analytiques recommandées pour évaluer la qualité de la surface des plaquettes ?
R2 : La microscopie électronique à balayage et la microscopie à force atomique sont couramment utilisées pour évaluer les défauts et la rugosité de la surface. Ces méthodes permettent de vérifier que la plaquette respecte des tolérances de fabrication strictes.

Q3 : Est-il possible d'ajuster les dimensions de la plaquette sans altérer son intégrité cristallographique ?
R3 : Il est possible de proposer des dimensions personnalisées tout en conservant les propriétés cristallographiques du substrat. La coordination avec l'assistance technique permet de s'assurer que toute modification est conforme aux normes de traitement établies.

Informations complémentaires

Les substrats d'alumine (Al2O3) sont largement utilisés dans le traitement électronique à haute température et dans les applications optiques. L'inertie chimique et la stabilité du matériau dans des conditions thermiques variées justifient son utilisation dans des environnements où des performances constantes sont essentielles.

La compréhension de la relation entre l'orientation cristallographique et la composition chimique joue un rôle essentiel dans l'optimisation des performances des substrats. Des analyses détaillées et des protocoles normalisés de contrôle de la qualité contribuent à faire progresser la fabrication des semi-conducteurs et l'optique de précision, en renforçant la fiabilité globale des dispositifs fabriqués.