AL10263 Plaque de saphir Al2O3 M Plan (10-10) 10x10x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 Plan M (10-10) 10x10x0,5 mm Description

Cette plaquette de saphir monocristallin, composée d'oxyde d'aluminium (Al2O3, numéro CAS : 1344-28-1), est découpée avec précision le long du plan M (10-10) avec des dimensions de 10 mm x 10 mm et une épaisseur de 0,5 mm. L'orientation cristallographique définie garantit des propriétés physiques et optiques uniformes, cruciales pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications de substrats. Les techniques de traitement contrôlées minimisent les microdéfauts, ce qui le rend adapté à la recherche et à l'utilisation industrielle.

Plaque de saphir Al2O3 M Plan (10-10) 10x10x0,5 mm Applications

Applications électroniques
- Utilisé comme substrat dans les dispositifs à semi-conducteurs pour obtenir des propriétés diélectriques stables en tirant parti de ses tolérances dimensionnelles précises.
- Utilisé comme matériau de base dans les systèmes LED et laser pour assurer une transmission uniforme de la lumière en tirant parti de sa surface plane M atomiquement lisse.

Applications industrielles
- Utilisé dans les modules de capteurs pour assurer des performances constantes grâce à ses propriétés cristallographiques définies.
- Utilisé comme composant de fenêtre dans les dispositifs optiques pour minimiser la diffusion en tirant parti de l'inertie chimique et de la stabilité thermique du saphir.

Plaquette de saphir Al2O3 M Plan (10-10) 10x10x0.5 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans un matériau antistatique avec des inserts en mousse pour absorber les chocs et prévenir les dommages mécaniques. Elle est ensuite scellée dans un conteneur propre et résistant à l'humidité avec un déshydratant pour contrôler l'humidité. L'emballage est conçu pour minimiser la contamination pendant le transport et le stockage. Des options d'emballage personnalisées, y compris le scellement sous vide et l'étiquetage spécialisé, sont disponibles en fonction des besoins spécifiques de l'utilisateur.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les tolérances typiques de planéité de surface pour cette plaquette ?
R1 : La plaquette est traitée pour obtenir une planéité de surface de quelques micromètres. Des mesures interférométriques sont utilisées pour évaluer la planéité, garantissant que le substrat répond aux exigences rigoureuses des applications lithographiques et de précision.

Q2 : La cohérence de l'orientation cristallographique peut-elle être assurée sur l'ensemble du lot ?
R2 : Oui, chaque plaquette est soumise à une analyse de diffraction des rayons X pour confirmer l'uniformité de l'orientation du plan M (10-10). Cette étape du contrôle de la qualité permet de vérifier que l'ensemble du lot conserve des propriétés cristallographiques cohérentes, essentielles pour les processus de haute précision.

Q3 : Comment l'emballage prévient-il la contamination et les dommages ?
R3 : Les plaquettes sont scellées individuellement dans des enveloppes antistatiques et rembourrées avec des inserts en mousse. Le conteneur résistant à l'humidité, ainsi que les déshydratants, minimisent le risque de contamination et de stress mécanique pendant le transport et le stockage, préservant ainsi l'intégrité de la surface de la plaquette.

Informations complémentaires

L'oxyde d'aluminium (Al2O3) est apprécié en science des matériaux pour sa grande dureté, son inertie chimique et sa conductivité thermique. Lorsqu'il est transformé en plaquettes de saphir monocristallin, ces propriétés sont optimisées pour fournir des substrats fiables pour les applications électroniques et optiques. L'orientation cristallographique précise obtenue grâce à des méthodes de coupe avancées est essentielle pour garantir des comportements physiques et électroniques uniformes dans diverses applications très demandées.

Les progrès réalisés dans la croissance des cristaux et le traitement des plaquettes ont permis de mieux contrôler les densités de défauts et les finitions de surface. La compréhension de la relation entre l'orientation des cristaux et les performances fonctionnelles est essentielle dans les secteurs des semi-conducteurs et de l'optoélectronique. Cette connaissance aide les scientifiques et les ingénieurs en matériaux à sélectionner des substrats qui répondent à des critères de performance spécifiques, tant pour la recherche que pour les applications industrielles.