AL10260 Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 0.5 inch x 0.5 inch x 0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 plan C (0001) 0,5 pouce x 0,5 pouce x 0,5 mm Description

La plaquette est un substrat d'oxyde d'aluminium (Al2O3) avec une orientation de plan C (0001). Ses dimensions de 0,5 pouce par 0,5 pouce et son épaisseur de 0,5 mm permettent de l'intégrer dans les outils de traitement des semi-conducteurs standard. L'alignement cristallographique contrôlé est essentiel pour obtenir des surfaces uniformes et une faible densité de défauts. L'inertie chimique inhérente et la stabilité structurelle de l'Al2O3 font de cette plaquette une barrière isolante efficace dans les applications de dispositifs électroniques et optiques avancés.

Plaque de saphir Al2O3 plan C (0001) 0,5 pouce x 0,5 pouce x 0,5 mm Applications

Électronique
- Utilisé comme substrat dans les dispositifs semi-conducteurs pour obtenir une isolation électrique cohérente en tirant parti d'une orientation cristallographique contrôlée (0001).
- Appliqué comme barrière diélectrique dans les circuits microélectroniques pour minimiser l'interférence des signaux en utilisant une surface uniformément lisse.

Optique et industrie
- Utilisé comme fenêtre optique dans les systèmes LED pour obtenir une transmission stable de la lumière en tirant parti de la grande inertie chimique du matériau.
- Utilisé comme composant dans les boîtiers de capteurs pour atteindre une stabilité thermique dans des conditions opérationnelles fluctuantes en utilisant les propriétés structurelles robustes de l'Al2O3.

Plaquette de saphir Al2O3 plan C (0001) 0,5 pouce x 0,5 pouce x 0,5 mm Emballage

Chaque plaquette est emballée individuellement dans un conteneur antistatique, contrôlé contre la poussière, avec des inserts en mousse rembourrés. Le produit est scellé dans des sachets sous vide résistants à l'humidité et expédié dans un emballage à température régulée afin de minimiser la contamination et les contraintes mécaniques. Les plaquettes doivent être stockées dans un environnement sec et peu humide. Des solutions d'emballage personnalisées, y compris l'étiquetage spécifique et la compartimentation, sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan C (0001) est-elle vérifiée pour ces plaquettes ?
R1 : L'orientation de la plaquette est confirmée par une analyse de diffraction des rayons X (XRD), qui fournit un examen détaillé de la structure cristallographique. Cette méthode permet de s'assurer que l'alignement répond aux critères stricts nécessaires pour les processus de semi-conducteurs en aval.

Q2 : Quelles sont les précautions de manipulation recommandées pendant le stockage ?
R2 : Les plaquettes doivent être conservées dans un environnement à température et à humidité contrôlées, avec un emballage antistatique. L'utilisation de conteneurs résistants à l'humidité et rembourrés minimise le risque de contamination et les contraintes physiques, préservant ainsi l'intégrité du substrat au fil du temps.

Q3 : Des modifications sont-elles possibles pour répondre à des demandes de recherche spécifiques ?
R3 : Des options de personnalisation concernant les dimensions des plaquettes et les traitements de surface sont disponibles. Toute modification demandée fait l'objet d'un traitement contrôlé et d'inspections détaillées de la surface, ce qui facilite la compatibilité avec divers dispositifs expérimentaux et processus de fabrication.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir sont dérivées d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3) et se caractérisent par leur structure cristallographique ordonnée, qui minimise la densité des défauts et améliore la stabilité thermique. Ces substrats font partie intégrante des applications où une isolation précise et une contamination minimale sont impératives.

Dans le domaine plus large de la science des matériaux, les substrats d'Al2O3 jouent un rôle crucial dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optiques. Leur utilisation s'étend à la recherche, où des propriétés de surface cohérentes et une cristallographie contrôlée influencent de manière significative les performances et la fiabilité des dispositifs.