AL10259 Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x10x0.1 mm

Plaque de saphir Al2O3 plan C (0001) 10x10x0.1 mm Description

Ce produit est une plaquette en Al2O3, présentant une orientation précise du plan C (0001) et des dimensions de 10x10 mm avec une épaisseur de 0,1 mm. L'alignement cristallographique contrôlé garantit une densité minimale de défauts de surface et une planéité uniforme, ce qui est essentiel pour le traitement des semi-conducteurs et les applications analytiques. Sa composition et sa régularité structurelle offrent une plate-forme stable pour divers processus de dépôt de couches minces et de fabrication microélectronique.

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x10x0.1 mm Applications

1.
Électronique et traitement des semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans la croissance épitaxiale de films pour les dispositifs semi-conducteurs afin d'obtenir un dépôt de couche uniforme en tirant parti de sa surface lisse en plan C.
- Utilisé comme plate-forme isolante dans les circuits microélectroniques pour minimiser les interférences diélectriques en utilisant sa grande pureté chimique et sa cristallinité constante.

2.
Capteurs industriels et systèmes optiques
- Sert de base de test pour les capteurs optiques afin de valider les propriétés de transmission de la lumière en capitalisant sur l'excellente planéité de sa surface.
- Fréquemment utilisé comme norme d'étalonnage dans les instruments optiques de précision pour obtenir des mesures précises en bénéficiant de son épaisseur et de sa composition contrôlées.

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x10x0.1 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans une enceinte antistatique et fixée dans une boîte doublée de mousse pour atténuer les dommages mécaniques pendant le transport. Chaque unité est scellée dans un sac résistant à l'humidité pour éviter la contamination et l'oxydation. L'emballage est conçu pour maintenir un environnement contrôlé, préservant les tolérances dimensionnelles et la qualité de surface de la plaquette jusqu'à ce qu'elle soit prête pour l'application. Des options d'étiquetage personnalisé et d'emballage compartimenté sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation cristallographique (0001) est-elle vérifiée ?
R1 : L'orientation est confirmée par la diffraction des rayons X à haute résolution et la diffraction par rétrodiffusion d'électrons. Ces techniques mesurent avec précision l'alignement et garantissent que la plaquette répond aux spécifications requises en matière de planéité et de densité de défauts.

Q2 : Quelles sont les procédures de nettoyage et de manipulation recommandées avant le traitement ?
R2 : Il est conseillé de rincer la plaquette dans des solvants de haute pureté, puis dans de l'eau déminéralisée, et de la sécher à l'aide d'azote filtré. La manipulation avec des gants et des outils de salle blanche est essentielle pour éviter la contamination par les particules et préserver l'intégrité de la surface.

Q3 : Comment la constance dimensionnelle est-elle maintenue pendant la production ?
R3 : La cohérence dimensionnelle est contrôlée par une inspection optique en ligne et des mesures micrométriques. Ce processus garantit que chaque plaquette est conforme aux tolérances de 10x10 mm et de 0,1 mm d'épaisseur requises pour les applications de traitement des semi-conducteurs.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir, composées d'oxyde d'aluminium, sont largement utilisées dans les applications microélectroniques et optoélectroniques en raison de leur inertie chimique et de leur stabilité thermique. Les propriétés intrinsèques de l'Al2O3, associées à une orientation du plan C contrôlée avec précision, constituent une plate-forme fiable pour la recherche et les processus de fabrication industriels.

La compréhension du comportement physique et chimique des substrats de saphir aide les spécialistes des matériaux à optimiser les performances des dispositifs. Les méthodes analytiques telles que la diffraction des rayons X et la microscopie électronique donnent un aperçu de la microstructure, ce qui permet de prédire avec précision les performances dans des environnements de haute précision.