AL10258 Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x5x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x5x0.5 mm Description

Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 10x5x0.5 mm est un substrat d'oxyde d'aluminium monocristallin de haute pureté présentant une orientation (0001). Les dimensions de 10 mm sur 5 mm et l'épaisseur de 0,5 mm garantissent la compatibilité avec l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs tout en maintenant la stabilité mécanique. Son alignement cristallographique précis est essentiel pour les applications nécessitant une isolation électrique et une clarté optique constantes dans les processus de recherche et de production.

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x5x0.5 mm Applications

Électronique
- Utilisé comme substrat dans la fabrication de capteurs à semi-conducteurs pour obtenir une grande stabilité du signal en tirant parti de son orientation cristallographique constante.
- Appliqué comme couche diélectrique dans les assemblages de filtres RF pour réduire les interférences de signaux en tirant parti de ses propriétés d'isolation électrique efficaces.

Industrie
- Utilisé comme norme d'étalonnage dans les systèmes de mesure optique pour garantir une analyse dimensionnelle précise en tirant parti de son épaisseur uniforme et de sa clarté optique.

Plaquette de saphir Al2O3 C-plane (0001) 10x5x0.5 mm Emballage

Chaque plaquette est emballée individuellement dans un conteneur antistatique et rembourré conçu pour éviter les dommages mécaniques et la contamination. Elle est enfermée dans une pochette en plastique scellée avec un déshydratant intégré pour maintenir un environnement exempt d'humidité. Il est recommandé de le stocker dans une zone à température contrôlée afin d'éviter tout stress thermique. Des options d'emballage personnalisées, y compris des compartiments étiquetés et un rembourrage spécialisé, sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelle est la signification de l'orientation (0001) de cette plaquette ?
R1 : L'orientation (0001) définit un plan cristallin uniforme qui est essentiel pour obtenir des propriétés optiques et électriques cohérentes. Cet alignement minimise la variabilité du comportement du substrat, ce qui est important pour la recherche précise et les processus de fabrication industrielle.

Q2 : Quel est l'impact des dimensions spécifiées sur l'intégration des processus ?
R2 : La taille de 10x5 mm et l'épaisseur de 0,5 mm s'alignent sur l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs, ce qui facilite une manipulation efficace et des résultats cohérents lors du dépôt de couches, de la gravure et d'autres étapes de fabrication.

Q3 : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité appliquées pendant la production ?
R3 : Stanford Advanced Materials utilise des techniques d'analyse de surface systématiques telles que le balayage par MEB et AFM pour détecter les défauts et vérifier l'exactitude des dimensions. Ces contrôles permettent de s'assurer que les plaquettes répondent systématiquement aux exigences rigoureuses des applications de substrats cristallins.

Informations complémentaires

Les plaques de saphir, composées d'Al2O3 monocristallin, jouent un rôle fondamental dans le développement de substrats pour divers dispositifs électroniques et optoélectroniques. Leurs propriétés inhérentes, notamment une isolation électrique et une transparence optique élevées, en font un choix privilégié dans les environnements où un comportement précis des matériaux est essentiel. Le processus de croissance contrôlé et l'examen rigoureux de la surface contribuent à minimiser la densité des défauts.

Dans le contexte plus large de la science des matériaux, les substrats de ce type constituent une plate-forme stable pour le dépôt de couches minces et la fabrication de composants semi-conducteurs. L'accent mis sur l'orientation cristallographique et la précision dimensionnelle favorise les progrès de la recherche et de la production, ce qui permet d'améliorer les performances et l'intégration dans les systèmes électroniques.