AL10255 Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0.1 mm

Plaque de saphir Al2O3 plan A (11-20) 10x10x0,1 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 plan A (11-20) 10x10x0,1 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3) et coupée avec précision le long du plan A (11-20). La taille de 10x10 mm est compatible avec les équipements de traitement standard, tandis que l'épaisseur de 0,1 mm permet d'obtenir une masse thermique minimale pour les processus à grande vitesse. Son inertie chimique inhérente et son homogénéité structurelle permettent de minimiser les risques de contamination dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optiques.

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0,1 mm Applications

Électronique et traitement des semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans le dépôt de couches minces pour les circuits intégrés afin d'obtenir une croissance uniforme du film en tirant parti de l'orientation constante des cristaux.
- Utilisé comme support pour la croissance de couches épitaxiales dans les dispositifs électroniques à grande vitesse, bénéficiant de sa précision dimensionnelle et de son inertie chimique.

Systèmes optoélectroniques et capteurs
- Sert de matériau de base dans la fabrication de DEL pour favoriser une émission de lumière optimale grâce à sa finition de surface supérieure et à sa faible densité de défauts.
- Employé dans les modules de capteurs optiques pour maintenir la clarté du signal et réduire le bruit grâce à son excellente uniformité structurelle.

Équipement de processus industriel
- Fréquemment utilisé comme composant dans les systèmes de traitement thermique de précision pour faciliter le transfert rapide de la chaleur en tirant parti de sa faible masse thermique et de sa grande résistance à la chaleur.

Plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0,1 mm Emballage

Les plaquettes sont emballées dans des conteneurs antistatiques, de qualité salle blanche, avec un rembourrage en mousse pour éviter les dommages mécaniques. Chaque plaquette est scellée individuellement dans des sachets de protection contre l'humidité afin de minimiser la contamination particulaire. Il est recommandé de stocker les produits dans un environnement à faible humidité et à température contrôlée. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques en matière de logistique et de manutention tout en préservant l'intégrité du substrat.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les techniques de traitement utilisées pour garantir la planéité du substrat ?
R1 : SAM utilise la cartographie interférométrique de la surface pendant le traitement, ce qui permet de détecter avec précision les écarts et de quantifier la planéité. Cette mesure guide l'étape finale de polissage, garantissant que la plaquette répond aux critères de planéité rigoureux nécessaires aux applications des semi-conducteurs.

Q2 : Comment l'orientation du plan A (11-20) affecte-t-elle les performances du dispositif ?
R2 : L'orientation du plan A (11-20) offre un alignement de surface cohérent et une densité de défauts réduite, ce qui améliore l'uniformité de la couche pendant la croissance épitaxiale. Cette uniformité permet d'obtenir des caractéristiques électriques et des performances de dispositifs prévisibles.

Q3 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour préserver la qualité des plaquettes ?
R3 : Il est conseillé de stocker les plaquettes dans un environnement à température contrôlée et à faible humidité. Les substrats doivent rester dans leur emballage antistatique jusqu'à leur utilisation afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique pendant la manipulation.

Informations complémentaires

Les substrats de saphir, composés d'Al2O3 cristallin, jouent un rôle crucial dans les applications à haute température et à haute fréquence. Leur inertie chimique et leur dureté mécanique les destinent à des environnements où une interaction minimale et une grande durabilité sont requises. Le choix d'une coupe dans le plan A permet en outre d'obtenir une surface uniforme qui profite aux processus ultérieurs tels que l'épitaxie et le dépôt de couches minces.

Dans le contexte plus large de la science des matériaux, les plaquettes de saphir sont essentielles pour faire progresser les industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique. Leur orientation cristallographique précise et leurs propriétés de surface supérieures permettent d'améliorer les performances des dispositifs, en particulier lorsque la précision et la stabilité à l'échelle nanométrique sont essentielles.