AL10254 Plaque de saphir Al2O3 Plan A (11-20) 10x10x1.0 mm

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x1.0 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x1,0 mm est un substrat fabriqué à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3, CAS 1344-28-1) avec une orientation définie dans le plan A (11-20). Sa surface de 10 mm x 10 mm et son épaisseur de 1,0 mm garantissent la conformité avec l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs. L'orientation contrôlée permet de déposer des couches uniformes et d'améliorer les propriétés électriques dans la fabrication de dispositifs avancés.

Plaque de saphir Al2O3 plan A (11-20) 10x10x1.0 mm Applications

1.
Applications électroniques
- Utilisé comme substrat dans les dispositifs semi-conducteurs pour obtenir une croissance épitaxiale uniforme en tirant parti de son orientation précise dans le plan A (11-20).
- Utilisé comme base diélectrique dans les circuits RF pour améliorer l'intégrité du signal en utilisant sa faible densité de défauts et sa composition stable.

2.
Applications industrielles
- Sert d'élément de base dans les modules de capteurs pour assurer la stabilité thermique grâce à sa grande pureté et à son inertie chimique.
- Fréquemment utilisé dans les systèmes optiques de précision pour maintenir la précision dimensionnelle et réduire les effets de diffusion grâce à sa structure cristallographique contrôlée.

Plaquette de saphir Al2O3 Plan A (11-20) 10x10x1.0 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans un support antistatique de qualité salle blanche et rembourrée avec des inserts en mousse pour minimiser les vibrations. Elle est scellée dans un sac de protection contre l'humidité afin d'éviter toute contamination particulaire. Le stockage doit se faire dans un environnement à température et humidité contrôlées. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de traitement et de manipulation.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan A (11-20) de la plaquette influe-t-elle sur la fabrication du dispositif ?
R1 : L'orientation du plan A (11-20) favorise un dépôt épitaxial uniforme et minimise les densités de dislocation, ce qui est essentiel pour obtenir des performances constantes dans les dispositifs semi-conducteurs et optiques.

Q2 : Quels sont les protocoles de manipulation recommandés pour ces plaquettes de saphir ?
R2 : Il est conseillé de manipuler les plaquettes dans une salle blanche à l'aide d'outils antistatiques afin d'éviter la contamination par des particules et les dommages physiques. Un contact minimal avec les doigts à l'aide de pinces ou d'outils à vide est recommandé pour préserver l'intégrité de la surface.

Q3 : Les spécifications dimensionnelles de cette plaquette sont-elles fixes ?
A3 : Les dimensions standard sont de 10x10x1,0 mm ; toutefois, une personnalisation peut être possible en fonction des capacités de production et des exigences spécifiques du processus. Une consultation technique avec SAM est recommandée pour des options détaillées.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium cristallin, est réputé pour sa dureté, sa stabilité thermique et son inertie chimique. Ces propriétés en font un matériau de choix pour les substrats utilisés dans des environnements à haute température et à fortes contraintes. Les orientations cristallographiques définies offrent une uniformité remarquable, ce qui facilite les processus de fabrication de dispositifs précis.

En science des matériaux, la synthèse contrôlée des plaquettes de saphir joue un rôle important dans diverses applications de haute performance. Il est essentiel de comprendre l'interaction entre l'orientation cristallographique, la pureté et la précision dimensionnelle pour obtenir des résultats de traitement optimaux dans les industries des semi-conducteurs, de l'optique et des capteurs.