AL10252 Saphir Wafer Al2O3 R plan 10x10x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 plan R 10x10x0.5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 R plane 10x10x0,5 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté (Al2O3) et présente une orientation R plane qui facilite la dissipation uniforme de la chaleur et minimise les défauts cristallographiques. Les dimensions (10 mm x 10 mm x 0,5 mm) sont maintenues avec précision pour permettre l'intégration dans l'équipement de traitement des semi-conducteurs. Son état de surface et son inertie chimique en font un substrat stable pour les applications optiques et à haute température.

Plaque de saphir Al2O3 R plane 10x10x0.5 mm Applications

Applications électroniques
- Utilisé comme substrat dans les LED et les dispositifs à semi-conducteurs pour améliorer la gestion thermique en tirant parti de son excellente conductivité thermique et de sa faible densité de défauts.
- Utilisé comme couche de base pour les composants RF afin de garantir la fiabilité dimensionnelle et de minimiser la perte de signal grâce à sa topologie de surface lisse.

Applications industrielles
- Servent de substrat isolant dans les circuits haute fréquence pour assurer la stabilité des composants grâce à leur inertie chimique et à leur orientation cristallographique cohérente.
- Fréquemment utilisé dans les modules de capteurs pour optimiser l'intégrité du signal grâce à sa dilatation thermique minimale et à l'uniformité de sa structure.

Plaquette de saphir Al2O3 R plane 10x10x0,5 mm Emballage

Les plaquettes sont emballées individuellement dans des supports antistatiques et scellées dans des conteneurs rigides recouverts de mousse afin d'éviter tout dommage physique et toute contamination particulaire. Les recommandations de stockage incluent un environnement frais et sec avec une humidité contrôlée pour préserver l'intégrité du matériau. Des options de personnalisation supplémentaires, telles que l'emballage sous vide et l'étiquetage spécifique, sont disponibles pour répondre aux exigences de manipulation particulières.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan R affecte-t-elle les performances de la plaquette ?
R1 : L'orientation du plan R fournit une structure cristalline uniforme qui améliore la dissipation de la chaleur et minimise les défauts pendant le traitement à haute température. Cette orientation contrôlée garantit que la plaquette conserve ses propriétés structurelles et thermiques dans des conditions de fonctionnement variées.

Q2 : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité mises en œuvre pendant la fabrication ?
R2 : SAM utilise des techniques avancées de dépôt en phase vapeur combinées à des inspections de surface par MEB pour vérifier la cohérence de l'orientation des cristaux et détecter les imperfections à micro-échelle. Ce processus d'essai rigoureux garantit la précision dimensionnelle et une grande uniformité, essentielles pour les applications de semi-conducteurs.

Q3 : Cette plaquette de saphir peut-elle être intégrée dans des processus de semi-conducteurs standard ?
R3 : Oui, les dimensions de 10x10x0,5 mm ont été définies pour s'aligner sur l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs. Son inertie chimique et son orientation cristallographique précise facilitent l'intégration dans les flux de fabrication existants sans nécessiter de modifications du processus.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir, fabriquées à partir d'Al2O3 monocristallin, servent de substrats dans divers domaines techniques en raison de leur excellente stabilité thermique et de leurs propriétés d'isolation. Leur rôle dans les dispositifs optiques et électroniques est souvent lié à leur capacité à supporter des environnements de traitement extrêmes sans dégradation significative. L'interaction entre l'orientation des cristaux et la minimisation des défauts est essentielle pour obtenir des performances constantes.

Une caractérisation détaillée des matériaux permet d'optimiser les processus de fabrication des dispositifs, contribuant ainsi à l'amélioration des performances opérationnelles dans de multiples applications industrielles.