AL10251 Saphir Wafer Al2O3 M plan 5x5x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 M plan 5x5x0.5 mm Description

Sapphire Wafer Al2O3 M plane 5x5x0.5 mm est un substrat monocristallin d'oxyde d'aluminium utilisé pour les applications de substrat cristallin dans la fabrication de semi-conducteurs et d'optoélectronique. L'orientation contrôlée du plan M permet d'obtenir une surface uniformément lisse, idéale pour l'intégration dans les équipements de traitement standard. Les dimensions permettent une compatibilité avec les outils de dépôt et de gravure conventionnels, tandis que la conductivité thermique intrinsèque et les propriétés d'isolation électrique contribuent à l'isolation des dispositifs et à la stabilité des processus à haute température.

Plaque de saphir Al2O3 M plane 5x5x0.5 mm Applications

Électronique
- Utilisation comme substrat dans les écrans LED pour obtenir une gestion thermique efficace en utilisant la haute conductivité thermique inhérente au saphir.
- Appliqué comme barrière diélectrique dans les circuits à haute fréquence pour réduire les interférences des signaux en utilisant son excellente isolation électrique.

Industrie
- Utilisé comme fenêtre optique dans les capteurs environnementaux pour maintenir une surveillance stable en capitalisant sur sa surface résistante aux rayures.
- Appliqué comme couche isolante dans les systèmes électroniques de puissance pour maintenir la séparation électrique en utilisant ses propriétés isolantes inhérentes.

Plaquette de saphir Al2O3 M plane 5x5x0,5 mm Emballage

Les plaquettes sont emballées individuellement dans des sachets antistatiques et résistants à l'humidité, puis placées dans des conteneurs doublés de mousse afin de minimiser les dommages mécaniques et la contamination de la surface. Elles doivent être stockées dans un environnement à température contrôlée et à faible humidité pour éviter l'oxydation. L'emballage comprend des films de protection et peut être personnalisé avec un étiquetage et une compartimentation spécifiques sur consultation technique pour répondre à des exigences précises en matière de stockage et de manipulation.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan M est-elle confirmée pendant la production ?
R1 : L'orientation du plan M est vérifiée par diffraction des rayons X et par microscopie électronique à balayage. Ces méthodes permettent d'évaluer l'alignement cristallographique et la qualité de la surface, garantissant ainsi que le substrat répond à des normes de traitement rigoureuses.

Q2 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour ces plaquettes ?
R2 : Il est conseillé de stocker les plaquettes dans un environnement sec, à température contrôlée et avec une exposition minimale à la poussière. L'utilisation d'emballages antistatiques et de films anti-humidité permet d'éviter la contamination et la dégradation de la surface.

Q3 : Des options de personnalisation sont-elles disponibles pour les dimensions ou l'orientation des plaquettes ?
R3 : Les options de personnalisation peuvent être discutées en fonction des capacités de production. Des consultations techniques sont menées pour déterminer si des modifications spécifiques des dimensions ou de l'orientation peuvent être réalisées sans altérer les propriétés intrinsèques du substrat.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir, composées uniquement d'oxyde d'aluminium (Al2O3), sont largement étudiées en science des matériaux pour leur excellente transparence optique et leur résistance mécanique. Leur structure cristalline et les orientations contrôlées de leur surface, comme le plan M, permettent de les intégrer dans de nombreux processus semi-conducteurs et optoélectroniques.

Dans le contexte plus large des matériaux avancés, les substrats en saphir jouent un rôle crucial dans les environnements à haute température et électriquement exigeants. La recherche continue à se concentrer sur l'optimisation des processus de croissance et des traitements de surface, améliorant ainsi leur compatibilité avec les technologies de fabrication émergentes dans diverses applications industrielles et de recherche.