AL10249 Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0.5 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0,5 mm est un substrat cristallin composé d'oxyde d'aluminium (Al2O3). La coupe spécifiée du plan A (11-20) permet d'obtenir une orientation cristallographique cohérente et une finition de surface lisse. La taille de 10x10 mm et l'épaisseur de 0,5 mm facilitent l'intégration dans l'équipement de traitement standard. Son inertie chimique et sa stabilité thermique améliorent ses performances dans la fabrication de dispositifs électroniques et optoélectroniques.

Plaque de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0.5 mm Applications

Électronique et traitement des semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans la fabrication de circuits intégrés pour obtenir un dépôt uniforme de couches minces en tirant parti de l'orientation cristallographique constante de la plaquette.
- Utilisé comme base pour les capteurs dans les applications à haute fréquence afin de contrôler la qualité de l'interface en utilisant une rugosité de surface minimale.

Dispositifs optoélectroniques
- Utilisé comme plate-forme optique dans les modules LED et laser pour améliorer la transmission de la lumière en tirant parti de la transparence et de la stabilité thermique inhérentes au matériau.

Applications industrielles et de recherche
- Utilisé comme norme d'étalonnage dans la recherche sur les matériaux pour garantir des résultats de mesure précis en tirant parti de dimensions définies et d'une faible densité de défauts.

Plaquette de saphir Al2O3 A plan (11-20) 10x10x0,5 mm Emballage

Chaque plaquette est emballée dans une pochette antistatique et scellée dans un conteneur rigide à l'épreuve de l'humidité. L'emballage est conçu pour minimiser la contamination particulaire et protéger contre les impacts mécaniques pendant le transport. Les recommandations en matière de stockage incluent un environnement contrôlé, à faible humidité et à température stable. Des solutions d'emballage personnalisées, y compris des conteneurs compartimentés ou étiquetés, sont disponibles sur demande pour répondre à des protocoles de manipulation spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment la coupe du plan A (11-20) affecte-t-elle les performances de la plaquette ?
R1 : La coupe A plane (11-20) fournit une surface cristallographique uniforme qui facilite le dépôt cohérent de couches minces et minimise la variation des propriétés du substrat, ce qui est essentiel pour la fabrication précise de dispositifs.

Q2 : Quel rôle les dimensions de la plaquette jouent-elles dans la compatibilité du traitement ?
R2 : La taille de 10x10 mm et l'épaisseur de 0,5 mm garantissent que la plaquette s'adapte à l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs, réduisant ainsi la nécessité de modifier les routines de manipulation et d'intégration au cours de la fabrication des dispositifs.

Q3 : Quelles sont les mesures prises pour minimiser les défauts de surface pendant la production ?
R3 : Le processus de fabrication intègre des méthodes avancées de contrôle de la qualité telles que la microscopie électronique à balayage et la profilométrie pour inspecter et vérifier l'uniformité de la surface, réduisant ainsi l'incidence des microdéfauts.

Informations complémentaires

Le saphir, ou Al2O3 cristallin, possède une dureté, une stabilité thermique et une inertie chimique élevées. Ces attributs justifient son utilisation comme substrat dans la fabrication de dispositifs électroniques et optoélectroniques, où des interférences minimales et des performances optimales sont essentielles. Ses orientations cristallographiques bien définies permettent d'obtenir un dépôt de film précis, une exigence essentielle dans les environnements de fabrication de haute précision.

Dans le domaine de la recherche en science des matériaux, les plaques de saphir sont fréquemment utilisées comme étalons et substrats pour le développement de nouvelles technologies de couches minces. Leurs propriétés mécaniques et optiques uniques permettent aux chercheurs d'explorer des architectures de dispositifs avancées tout en maintenant la cohérence du comportement des matériaux de base.