AL10246 Sapphire Wafer Al2O3 M plane 10x10x0.5 mm

Plaque de saphir Al2O3 M plan 10x10x0.5 mm Description

Sapphire Wafer Al2O3 M plane 10x10x0,5 mm est un substrat à base d'alumine avec une orientation contrôlée du plan M. Ses dimensions de 10x10 mm garantissent la compatibilité avec l'équipement de traitement standard. Ses dimensions de 10x10 mm garantissent la compatibilité avec les équipements de traitement standard, tandis que l'épaisseur de 0,5 mm facilite la manipulation et réduit le gauchissement. Le matériau présente une excellente conductivité thermique et une inertie chimique, ce qui le rend adapté au traitement des semi-conducteurs et aux applications optiques nécessitant peu de défauts de surface et une grande précision dimensionnelle.

Plaque de saphir Al2O3 M plane 10x10x0,5 mm Applications

1.électronique
- Utilisation comme substrat dans l'emballage des LED pour obtenir une dissipation efficace de la chaleur en tirant parti d'une conductivité thermique élevée.
- Utilisé comme base pour la croissance épitaxiale dans les dispositifs semi-conducteurs afin d'obtenir une faible densité de défauts grâce à sa finition de surface ultra-plate.

2. l'optique
- Utilisé comme plate-forme dans les systèmes laser pour assurer une diffusion minimale en utilisant les faibles niveaux de particules de la plaquette.
- Servent de fenêtre optique dans les instruments à haute température pour assurer une transmission stable de la lumière en tirant parti de leur inertie chimique.

3)Systèmes industriels
- Utilisé comme isolant dans les modules de capteurs pour obtenir des performances stables en tirant parti de l'excellente résistance électrique de l'alumine.
- Utilisé comme composant dans les appareils de mesure à haute température pour obtenir un fonctionnement fiable grâce à sa stabilité thermique robuste.

Plaquette de saphir Al2O3 M plane 10x10x0,5 mm Emballage

Les plaquettes sont emballées individuellement dans des conteneurs de qualité salle blanche avec un rembourrage inerte et antistatique pour éviter les dommages mécaniques et la contamination. Elles sont stockées dans des conditions d'humidité et de température contrôlées afin de préserver l'intégrité de la surface. La conception de l'emballage comprend un étiquetage détaillé pour la traçabilité et la possibilité de personnaliser l'emballage pour répondre à des exigences spécifiques en matière de stockage ou de transport.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment l'orientation du plan M est-elle vérifiée pendant la production ?
R1 : L'orientation du plan M de la plaquette est vérifiée à l'aide d'une analyse par diffraction des rayons X (XRD). Cette méthode fournit des données cristallographiques précises permettant de s'assurer que le substrat respecte des tolérances angulaires précises.

Q2 : Quelles sont les précautions de manipulation recommandées pour cette plaquette de saphir ?
R2 : Il est conseillé d'utiliser des gants de salle blanche et des outils antistatiques pour manipuler la plaquette. Cela minimise le risque de contamination de surface et de stress mécanique, ce qui est important pour maintenir l'intégrité de la plaquette.

Q3 : La plaquette peut-elle supporter des environnements de traitement à haute température ?
R3 : La stabilité thermique inhérente à l'alumine permet à la plaquette de supporter les processus à haute température couramment rencontrés dans la fabrication des semi-conducteurs. Toutefois, il est important de respecter des consignes de température spécifiques afin d'éviter tout choc thermique pendant le traitement.

Informations complémentaires

Le saphir, ou oxyde d'aluminium monocristallin (Al2O3), est largement reconnu pour sa grande dureté et ses excellentes propriétés diélectriques. Son inertie chimique et sa stabilité à des températures élevées en font un choix privilégié pour les substrats dans divers domaines tels que la fabrication de semi-conducteurs et l'optique avancée. L'orientation contrôlée des cristaux obtenue au cours de la production joue un rôle essentiel dans l'obtention d'une faible densité de défauts et la garantie de performances uniformes dans les applications de précision.

Dans le domaine de la science des matériaux, le développement des plaquettes de saphir a évolué grâce à un contrôle strict des paramètres cristallographiques et de l'état de surface. Ces progrès permettent d'améliorer les caractéristiques de l'interface dans les appareils électroniques et optiques, ce qui contribue à accroître la fiabilité et les performances des appareils.