AL10244 Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 0.5 inch X 0.5 inch x 1.0 mm

Plaque de saphir Al2O3 plan C (0001) 0.5 pouce X 0.5 pouce x 1.0 mm Description

La plaquette de saphir Al2O3 plan C (0001) 0,5 pouce X 0,5 pouce x 1,0 mm est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium (Al2O3) avec une orientation cristallographique plan C (0001). La plaquette mesure 0,5 pouce sur 1,0 mm d'épaisseur, ce qui garantit sa compatibilité avec les équipements standard de traitement des semi-conducteurs. La planéité de sa surface et sa faible densité de défauts contribuent à améliorer l'uniformité du processus dans la fabrication microélectronique et les applications optiques.

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 0,5 pouce X 0,5 pouce x 1,0 mm Applications

1.fabrication de produits électroniques et de semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans la fabrication de circuits intégrés pour obtenir une interface plate en tirant parti de l'orientation contrôlée du plan C.
- Utilisé dans les processus de dépôt de couches minces pour réduire les pertes par diffusion grâce à sa faible densité de défauts.

2)Dispositifs optoélectroniques
- Sert de fenêtre dans la production de DEL pour améliorer l'extraction de la lumière en utilisant sa grande transparence optique.
- Fréquemment utilisé dans les applications de capteurs pour permettre une conversion stable du signal en garantissant des propriétés matérielles uniformes.

Plaque de saphir Al2O3 C-plane (0001) 0,5 pouce X 0,5 pouce x 1,0 mm Emballage

La plaquette est emballée dans un plateau antistatique rembourré à l'intérieur d'un sac scellé de protection contre l'humidité afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique. L'emballage comprend également des inserts en mousse et des cartons de protection rigides. Les directives de stockage recommandent un environnement sec et à température contrôlée pour préserver les propriétés du matériau. Des options d'emballage personnalisées, y compris des compartiments étiquetés et des supports résistants aux vibrations, sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment la planéité de la surface de la plaquette et la densité des défauts sont-elles vérifiées ?
R1 : Les caractéristiques de surface sont systématiquement vérifiées à l'aide de la microscopie à force atomique (AFM) et de la microscopie électronique à balayage (SEM). Ces évaluations permettent de s'assurer que la plaquette répond aux exigences de planéité et de faible densité de défauts nécessaires au traitement des semi-conducteurs.

Q2 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour cette plaquette de saphir ?
R2 : La plaquette doit être stockée dans un environnement sec et à température contrôlée afin d'éviter l'absorption d'humidité et les contraintes physiques. Un emballage antistatique et une manipulation sans vibration sont conseillés pour préserver l'intégrité structurelle de la plaquette.

Q3 : Les dimensions ou l'orientation de la plaquette peuvent-elles être personnalisées ?
Les demandes spécifiques concernant les dimensions des plaquettes ou les orientations cristallographiques alternatives doivent être discutées avec l'équipe technique de SAM afin de déterminer la faisabilité et l'impact sur les propriétés des matériaux.

Informations complémentaires

Les substrats de saphir fabriqués à partir d'Al2O3 sont fondamentaux dans les domaines de la microélectronique et de l'optoélectronique en raison de leur grande stabilité thermique et de leur inertie chimique. L'orientation du plan C est particulièrement appréciée dans les applications où des conditions de surface uniformes sont essentielles pour le dépôt de films et la performance des dispositifs.

Les spécialistes des matériaux étudient fréquemment les propriétés cristallographiques du saphir afin d'améliorer les performances des substrats. Les recherches en cours se concentrent sur la réduction de la densité des défauts et l'amélioration de la qualité de la surface, ce qui profite à des applications allant de l'électronique à haute fréquence aux technologies des capteurs avancés.