1100C Four RTP compact à atmosphère contrôlée OTF-1200X-4-RTP Description
Le fourRTP compact à atmosphère contrôlée 1100C est un four tubulaire compact de traitement thermique rapide équipé d'un tube de traitement en quartz de 4" de diamètre intérieur et de brides à vide. Spécialement conçu pour le recuit de plaquettes de semi-conducteurs ou de cellules solaires d'un diamètre allant jusqu'à 3", ce four offre des capacités de traitement thermique précises.
Chauffé par 8 unités de lampes halogènes de 1 kW, l'OTF-1200X-RTP-4 a une vitesse de chauffage maximale de 50°C/seconde. Un contrôleur de température de précision à 50 segments avec une précision de +/-1°C est intégré au four, ce qui permet un contrôle précis du chauffage, du logement et du refroidissement à différentes étapes du processus.
1100C Four RTP compact à atmosphère contrôlée OTF-1200X-4-RTP Spécifications
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Caractéristiques
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- L'enveloppe en acier à double couche avec refroidissement par air maintient la température de surface du four à moins de 60°C.
- Isolation en fibre d'alumine de haute pureté pour une économie d'énergie maximale.
- Couvercle divisé avec protection de verrouillage, coupant l'alimentation si le couvercle est ouvert pendant le processus de chauffage du four.
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Température de fonctionnement
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- Température de chauffage max :
1100℃ (< 10 min)
1000℃, (<20 min)
800℃, (<120 min)
- Température de fonctionnement continu : ≤600℃
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Paramètres de base
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- Élément chauffant : Thermocouple de type K
- Débit d'eau de circulation : 0,5 m3/h
- Plage de mesure du débit standard : 16-160 ml/min
- Jauge de vide numérique : 10-4 à 1000 torr
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Alimentation électrique
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208-240V AC, 12 KW, 50/60 Hz
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Contrôle de la température
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- Le contrôleur de température FA-YD808P-AG est inclus.
- Contrôle proportionnel-intégral-dérivé (contrôle PID) et fonction d'autoréglage
- 50 segments programmés avec des étapes de rampe, de refroidissement et de logement
- Alarme de surchauffe et alarme de défaillance du thermocouple intégrées
- Précision du contrôle de la température de +/- 1 ºC
- Port de communication PC DB9 par défaut
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Tube en quartz et porte-échantillon
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- Tube de quartz : 4,33" de diamètre extérieur x 4,05" de diamètre intérieur x 16,2" de longueur.
- Un porte-échantillon en AlN de 3" de diamètre pour le recuit d'échantillons jusqu'à 3" de diamètre est inclus.
(L'AlN a une conductivité thermique très élevée qui permet d'obtenir la meilleure uniformité de température dans la zone de l'échantillon. Le porte-échantillon peut être retiré de la bride pour utiliser le four RTP à d'autres fins).
- En option : substrat en graphite épais de 3 pouces de diamètre extérieur (une alternative à la plaque AIN).
- En option : Creuset en graphite (87 mm de diamètre extérieur x 71 mm de diamètre intérieur x 12 mm de hauteur avec couvercle) conçu pour un porte-échantillon de 3 pouces.
(Le creuset peut également être transformé en four RTE, CSS ou HPCVD avec un creuset en graphite recouvert de SiC.
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Dimensions générales
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- Bride (fermée) : 1350 L * 330 L * 590 H mm
- Bride (ouverte) : 1350 L * 520 L * 740 H mm
- Taille du four : φ180*190mm
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Poids net
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70 kg
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Garantie
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- Garantie limitée d'un an avec assistance à vie.
- ATTENTION : Les dommages causés par l'utilisation de gaz corrosifs et acides ne sont pas couverts par la garantie limitée d'un an de SAM.
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Certificat
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- Certifié CE
- La certification NRTL ou CSA est disponible moyennant un supplément de prix.
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1100C Four RTP compact à atmosphère contrôlée OTF-1200X-4-RTP Applications
- Fabrication de semi-conducteurs : Utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que les plaquettes de silicium, les MEMS (systèmes micro-électro-mécaniques) et les cellules photovoltaïques. Les fours verticaux sont utilisés pour des processus tels que l'oxydation, la diffusion, le LPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à basse pression) et le recuit.
- Dépôt de couches minces : Utilisé pour le dépôt de couches minces sur des substrats à l'aide de techniques telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt de couches atomiques (ALD). Les fours verticaux offrent un environnement contrôlé pour un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition des films.
- Production de cellules solaires : Appliqué à la fabrication de cellules solaires et de modules photovoltaïques. Les fours verticaux sont utilisés pour des processus tels que la diffusion, le dépôt de revêtement antireflet et la métallisation afin d'améliorer l'efficacité et les performances des cellules solaires.
1100C Four RTP à atmosphère contrôlée OTF-1200X-4-RTP Emballage
Notre four RTP 1100C à atmosphère contrôlée OTF-1200X-4-RTP est manipulé avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de notre produit dans son état d'origine.
