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ST0515 Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium et d'oxyde d'yttrium, HfO2/Y2O3

Catalog No. ST0515
Formule chimique HfO2/Y2O3
La purée 99.9%, 99.99%, 99.999%
Forme Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Les cibles de pulvérisation SAM en oxyde d'hafnium et oxyde d'yttrium sont disponibles sous différentes formes, puretés, tailles et prix. Nous sommes spécialisés dans la production de matériaux de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de haute pureté, avec la densité la plus élevée possible et la taille moyenne de grain la plus petite possible, pour les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans les applications d'affichage et d'optique.

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