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Stanford Advanced Materials
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  • ST0515 Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium et d'oxyde d'yttrium, HfO2/Y2O3

    • ST0515 Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium et d'oxyde d'yttrium, HfO2/Y2O3

    Catalogue No. ST0515
    Formule chimique HfO2/Y2O3
    Pureté 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Forme Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

    Les cibles de pulvérisation SAM en oxyde d'hafnium et oxyde d'yttrium sont disponibles sous différentes formes, puretés, tailles et prix. Nous sommes spécialisés dans la production de matériaux de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de haute pureté, avec la densité la plus élevée possible et la taille moyenne de grain la plus petite possible, pour les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans les applications d'affichage et d'optique.

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